抛光磨头厂家带您了解机械抛光

金相试样研磨之后需要进行抛光，以将试样上研磨过程产生的磨痕及变形层去掉，使其成为光滑镜面。目前抛光试样的方法为机械抛光、电解抛光、化学抛光以及复合抛光等。常用的抛光方式为机械抛光。下面简单为大家介绍机械抛光、电解抛光、化学抛光各自的特点。

一、机械抛光：

在专门的抛光机上进行抛光。机械抛光主要分为两个步骤：粗抛和精抛。

粗抛：目的是除去磨光的变形层。

以往粗抛常用的磨料是粒度为10-20μm的α-Al2O3、Cr2O3或Fe2O3，加水配成悬浮液使用。目前，人造金刚石磨料已逐渐取代了氧化铝等磨料，因其具有以下优点：

1)与氧化铝等相比，粒度小得多的金刚石磨粒，抛光速率要大得多，例如4~8μm金刚石磨粒的抛光速率与10~20μm氧化铝或碳化硅的抛光速率相近；

2)表面变形层较浅；

3)抛光质量好。

精抛：又称终抛，目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光损伤减少到很低。

常用的精抛磨料为MgO及γ-Al2O3，其中MgO的抛光效果好，但抛光效率低，且不易掌握；γ-Al2O3的抛光速率高，且易于掌握。

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